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| 真空鍍膜所使用的靶材有哪些？ |
| 發(fā)布時間：2014-07-10 瀏覽： 次 |
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電子產品目前應用已日益廣泛，而這些電子產品很多都需要真空鍍膜機鍍膜后才投入使用，目前常用的真空鍍膜設備是磁控濺射真空鍍膜機，在這里我們來看一下在濺射中所使用的靶材。 一般我們使用的靶材不外乎三種類型，金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。 硬碟使用的靶材有很多，在記錄面上鍍上多層的薄膜，每層薄膜有各自的功效，在最底層，會鍍上40nm厚的鉻或者鉻合金，增強結合力和抗腐蝕能力，中間再鍍上15nm厚的鈷鉻合金，再鍍上35nm厚的鈷合金，作為磁性材料，這種材料可以充分體現磁性和低干擾的特性，最后再鍍上15nm厚的碳薄膜。 磁頭的濺射靶材常用的是鐵鎳合金，后來又增加了一些新的化合物材料，像氮化鐵、氮化鐵鉭，氮化鐵鋁等，這些都是優(yōu)質的磁介質膜層靶材。 CD碟片會用上鋁膜作為反射層鍍在塑料的工件上，但對于CDROM和DVDROM這些碟片，就不能使用鋁膜了。 因為在這些碟片上會有一層染料層，上面的物質對于鋁而言具有一定的腐蝕性，一般會由金膜或銀膜替代。 光碟的膜層也是多層組成的，它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層，里面混有非晶態(tài)稀土過渡元素，再鍍上20到100nm厚的氮化硅介質層，最后鍍上鋁膜反射層。 這些需要落得磁性能，能夠記錄數據的電子產品，要實現這些功能，還是要靠各種不同物質所濺射而成的薄膜，靠其成膜后顯示出來的晶體狀態(tài)排序來實現。 相關閱讀 |
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