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    鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。

    鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍
（1）鍍膜設(shè)備的特點： 成膜速度快0.1- 50um/min， 設(shè)備比較簡單，操作容易；制得薄膜純度高；薄膜生長機理較簡單。
（2） 缺點：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復(fù)性不夠好。

 
鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事？
一。產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗氬氣放大時間長點。
二。清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。
三。工藝參數(shù)是否有變動在膜厚和電流上可以做點調(diào)整。
還有就是靶材的問題等。

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